源瓶组件,CSR 系列

应用于前驱体的存储

在原子层沉积 (ALD) 工艺中,选择合适的前驱体对工艺控制、薄膜性能等方面至关重要;同时根据前驱体特性,如挥发性、反应性等,配以合适的源瓶对工艺会有协同效应。CSR 系列源瓶组件通过对选材到成型工艺的高品质把控,因此能适应绝大部分前驱体封装存储,为整段沉积工艺提供绝佳的安全性和洁净度保障。

特征

满足超高纯工艺,适用于超高纯应用
浸润金属部件为 316L SS,广泛的化学兼容性
外部机械抛光至镜面,内部电解抛光至粗糙度 Ra ≤ 0.25 µm (10 µin.)
连接尺寸:1/4" 至 1/2"
连接方式:金属面密封接头
提供多种容积定制服务

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